Reaktionen zur Bildung von Silylphosphinen des Typs X3−(n+m)(CH3)nHmSi-PH2 (X = F, Cl, Br)

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Abstract
Es wird über Reaktionen zwischen Halogensilanen und PH2−haltigen Silylphosphinen berichtet. CH3SiHClPH2 wird nach Gl. (1) zugänglich. magnified image Zur Bildung von Cl3SiPH2 wurden Umsetzungen von SiCl4 mit CH3SiH(PH2)2, CH3SiH2PH2 und (CH3)3SiPH2 durchgeführt, wobei Reaktionen entsprechend Gl. (2) eintreten. magnified image Es treten Nebenreaktionen auf. Beim reaktionsfähigeren CH3SiH(PH2)2 ist die Isolierung von Cl3SiPH2 im Gemisch mit SiCl4 und CH3SiHClPH2 möglich. Unter den Reaktionsbedingungen (50°C) zerfällt Cl3SiPH2 in PH3 und SiP‐Polymere. SiBr4 reagiert bereits bei Raumtemperatur. Durch Umsetzung mit CH3SiH(PH2)2 werden je nach Reaktionsdauer CH3SiHBrPH2, Br3SiPH2 und auch Br2Si(PH2)2 zugänglich. Auch die Reaktion mit CH3SiH2PH2 führt zum Br3SiPH2 neben CH3SiH2Br. Mit FSiBr3 bildet CH3SiH(PH2)2 das FSiBr2PH2 neben CH3SiHBrPH2, während bei den F‐reicheren Derivaten F2SiBr2 und F3SiBr die Disproportionierung in SiF4 gegenüber der SiP‐Spaltung überwiegt. Es werden die NMR‐Daten der Verbindungen angegeben.Cl3SiPH2 decomposes into PH3 and SiP‐polymers under the reaction conditions (50°C). SiBr4 however will react at room temperature. Depending on the time of reaction CH3SiHBrPH2, Br3SiPH2 and even Br2Si(PH2)2 are obtained with CH3SiH(PH2)2. Also the reaction with CH3SiH2PH2 leads to the formation of Br3SiPH2 in addition to CH3SiH2Br. With FSiBr3, CH3SiH(PH2)2 forms FSiBr2PH2 together with CH3SiHBrPH2. In the reaction of the higher fluorinated derivatives F2SiBr2 and F3SiBr the disproportion into SiF4 is found to be preferred to SiP cleavage and therefore these reactions can not be adequately used. The nmr data are reported.

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