Neue Entwicklungen zur Herstellung von Hartstoffschichten mittles Plasma‐CVD
- 1 March 1986
- journal article
- Published by Wiley in Materialwissenschaft und Werkstofftechnik
- Vol. 17 (3), 109-114
- https://doi.org/10.1002/mawe.19860170308
Abstract
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- The plasma-assisted chemical vapour deposition of TiC, TiN and TiCxN1−xThin Solid Films, 1981
- Beschichten nach den CVD‐VerfahrenMaterialwissenschaft und Werkstofftechnik, 1980
- Chemischer transport im nichtisothermen plasma; bildung von ain- und tin-kristallenJournal of Crystal Growth, 1971