Zur Empfindlichkeit des UV‐Photorasistes AZ 2400 bei Einsatz von Lasern
- 1 April 1985
- journal article
- other
- Published by Wiley in Zeitschrift für Chemie
- Vol. 25 (4), 158-159
- https://doi.org/10.1002/zfch.19850250429
Abstract
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- Reciprocity behavior of photoresists in excimer laser lithographyIEEE Transactions on Electron Devices, 1984
- Zum Substituenteneinfluß auf die UV-Empfindlichkeit der Naphthochinondiazid-PhotolackeZeitschrift für Chemie, 1983
- Photochemical Studies on a Substituted Naphthalene‐2,1,Diazooxide: The Formation and Identification of a Ketene from a Wolff RearrangementJournal of the Electrochemical Society, 1977