Carbon and composite carbon-metal films deposited in an rf glow discharge operated in organic gases
- 30 November 1985
- Vol. 35 (10-11), 447-453
- https://doi.org/10.1016/0042-207x(85)90365-3
Abstract
No abstract availableKeywords
This publication has 45 references indexed in Scilit:
- Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition of Thin FilmsPublished by Elsevier ,1982
- A review of recent work on hard i-C filmsThin Solid Films, 1981
- Infrared transparent and amorphous carbon grown under ion impact in a butane plasmaThin Solid Films, 1978
- Strukturuntersuchungen an dünnen Polymerisat‐und KohlenstoffschichtenPhysica Status Solidi (b), 1962
- Elektrische Eigenschaften dünner Benzolpolymerisat‐ und KohleaufdampfschichtenPhysica Status Solidi (b), 1961
- Zum Aufbau dünner Kohlenwasserstoff‐Polymerisat‐Schichten mit verschiedener spezifischer elektrischer LeitfähigkeitPhysica Status Solidi (b), 1961
- Der Aufbau von Glimmentladungs-Polymerisaten verschiedener Entstehungsbedingungen und seine Veränderung durch ElektronenbestrahlungThe European Physical Journal A, 1958
- Über dünne aus Kohlenwasserstoffen durch Elektronen- oder Ionenbeschuß gebildete SchichtenThe European Physical Journal A, 1951
- Free radicals in electrical dischargesTransactions of the Faraday Society, 1934
- Vermischte MittheilungenEuropean Journal of Inorganic Chemistry, 1874