Etude XPS de films minces de NbN : décapage, oxydation à l'air, et oxydation thermique entre 20 °C et 200 °C. Comparaison avec les films minces de Nb

Abstract

Le décapage de films minces de NbN par plasma d'argon Radio Fréquence a été étudié par spectroscopie de photo-électrons X (XPS) et comparé à celui des films de Nb. Une comparaison des oxydations natives de ces films met en évidence le fait que l'oxydation de NbN dépend moins des éléments polluants présents que celle du Nb. Une étude de l'oxydation thermique de films de NbN à différentes pressions et différentes températures (≤ 10-2 mbar et ≤ 200 °C) montre qu'il y a formation d'un interface constitué essentiellement de sous-oxydes de niobium puis de pentoxyde de niobium Nb2O5, l'azote diffusant dans la couche oxyde. L'épaisseur d'oxydes formés, ainsi que l'épaisseur de l'interface métal-pentoxyde restent inférieures à celles obtenues pour les films de Nb